摘要 |
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Plasmabehandlung in Hohlkörpern, insbesondere zur plasmachemischen Modifizierung von im Inneren von Hohlkörpern befindlichen Oberflächen. Bei dem Verfahren wird ein flexibler Hohlkörper bereitgestellt, der vor dem Verschließen unter Volumenkontraktion auf einen bestimmten Druck evakuiert wird. Dieser Druck wird so gewählt, daß der Hohlkörper unter reduziertem Außendruck in einer Plasmaprozeßkammer eine Volumenexpansion erfährt, bei der der Druck im Hohlkörper einen Wert erreicht, der bei Anlegen eines äußeren elektrischen Feldes eine Gasentladung im Hohlkörper zuläßt. Der auf diese Weise evakuiert und verschlossene Hohlkörper wird in eine Vakuumkammer gebracht, die derart evakuiert wird, daß sich im Hohlkörper die Voraussetzungen für das Zünden einer Gasentladung einstellen. Schließlich wird die Gasentladung innerhalb des Hohlkörpers durch Anlegen eines elektrischen Feldes gezündet. DOLLAR A Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren läßt sich auf einfache und vorteilhafte Weise die Plasmabehandlung im Inneren von Hohlkörpern erreichen, ohne daß zusätzliche Modifikationen an bestehenden Plasmaanlagen erforderlich wären.
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