| 主权项 |
1.一种热退火设备,包括: 一第一腔室,具有一入口与一出口; 一加热器,配置于该第一腔室内之顶部; 一升降机构,配置于该第一腔室内之底部;以及 一波浪状反射底板,配置于该第一腔室内之底面上 。 2.如申请专利范围第1项所述之热退火设备,更包括 一档板(shutter plate),该加热器位于该档板与该第一 腔室顶部之间,且该档板适于由该出口退出该第一 腔室。 3.如申请专利范围第1项所述之热退火设备,其中该 升降机构包括多个顶销。 4.如申请专利范围第1项所述之热退火设备,其中该 波浪状反射底板包括: 一基材; 一介电层,配置于该基材上,其中该介电层表面具 有多个凸起;以及 一反射膜层,覆盖于该介电层表面之该些凸起上。 5.如申请专利范围第4项所述之热退火设备,其中该 基材之材料包括石英。 6.如申请专利范围第4项所述之热退火设备,其中该 反射膜层之材料包括高反射率金属材料。 7.如申请专利范围第6项所述之热退火设备,其中该 反射膜层之材料包括铝、钼或铬。 8.如申请专利范围第1项所述之热退火设备,更包括 多个冷却喷嘴(cooling nozzle),配设于该第一腔室内 之底部。 9.如申请专利范围第1项所述之热退火设备,更包括 一第一阀门,配置于该第一腔室之该入口处。 10.如申请专利范围第1项所述之热退火设备,更包 括一第二阀门,配置于该第一腔室之该出口处。 11.如申请专利范围第1项所述之热退火设备,更包 括一第二腔室,配置于该第一腔室之该出口处,且 适于与该第一腔室连通。 12.如申请专利范围第2项所述之热退火设备,更包 括一第二腔室,配置于该第一腔室之该出口处,且 适于与该第一腔室连通。 13.如申请专利范围第12项所述之热退火设备,更包 括一传送机构,配置于该第二腔室内,其中该档板 适于藉由该传送机构之传送,而由该第一腔室该进 入该第二腔室。 14.如申请专利范围第13项所述之热退火设备,其中 该传送机构包括: 一滚轮组,配置于该第二腔室内;以及 一承载板,配置于该滚轮组上。 图式简单说明: 图1是习知热退火设备之剖面示意图。 图2是习知之反射底板反射热辐射之示意图。 图3是本创作之热退火设备之剖面示意图。 图4是本创作之波浪状反射底板之剖面示意图。 |
