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Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Beschichten von Substraten, wobei durch eine Gaszuführung Prozessgase in eine Prozesskammer eines CVD-Reaktors gebracht werden, die sich auf dem darin angeordneten und von einer Heizeinrichtung beheizten Substrat und auf Oberflächen von Komponenten (10) der Prozesskammer pyrolytisch zerlegen und eine Beschichtung der Oberfläche bilden, wobei mindestens eine Oberfläche einer Komponente (10) durch räumliche Strukturierungselemente (11, 12) gebildete Teilflächen aufweist. Erfindungsgemäß unterteilen die Strukturierungselemente (12) die Oberfläche in eine Vielzahl von in einer gemeinsamen Ebene liegende Teilflächen (11) und sind Gräben oder Rippen. |
