| 摘要 |
<P>LA COMPOSITION DE BASE COMPREND, EN SOLUTION DANS AU MOINS UN SOLVANT ORGANIQUE AVEC OU SANS EAU, DE 10 A 40 D'UN ORGANOSILICIQUE DURCISSABLE RESULTANT D'UNE PREMIERE REACTION D'HYDROLYSE EFFECTUEE A UNE TEMPERATURE INFERIEURE A 50C EN PRESENCE D'UN ACIDE CARBOXYLIQUE ET D'EAU SUR AU MOINS UN ORGANOSILOXANE RSI(OR) AVEC N1 OU 2, EN ASSOCIATION OU NON AVEC AU MOINS UN ORGANOSILOXANE SI(OR), PUIS, APRES ELIMINATION A FROID DES SOLVANTS VOLATILS FORMES ET ADDITION D'UN SOLVANT MOINS VOLATIL ET D'AU MOINS UN ORGANOSILOXANE RSI(OR), D'UNE SECONDE REACTION D'HYDROLYSE A TEMPERATURE INFERIEURE A 40C, REACTION SUIVIE DU REGLAGE DU PH ENTRE 3,5 ET 5,5 PAR UNE BASE ORGANIQUE.</P>
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