| 摘要 |
Certains matériaux de masquage, tels que l'or, sont difficiles à enlever sans endommager la pièce se trouvant en dessous. Ce problème est résolu à l'aide d'un procédé où dans une première étape, une couche "de séparation" (44) d'un métal sélectionné dans le groupe constitué de nickel, aluminium, indium et d'étain est appliquée sur le substrat (10) à masquer. Sur la couche de séparation, la couche de masquage (22) est appliquée. Après traitement, la couche de séparation (44) est traitée pour la détacher ensemble avec le masque du substrat. Pour le bombardement d'un substrat par des protons, lequel substrat contient de l'arsenide de gallium, la couche de séparation est de préférence en nickel, le masque est de préférence en or, et l'agent de détachement comprend de l'acide chlorhydrique. |
