| 发明名称 |
Spacer for conductive plates in RF plasma reactor used in chemical vapour deposition |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB2109010(A) |
申请公布日期 |
1983.05.25 |
| 申请号 |
GB19820020199 |
申请日期 |
1982.07.12 |
| 申请人 |
* ADVANCED SEMICONDUCTOR MATERIALS AMERICA INC |
发明人 |
RICHARD S * ROSLER;GEORGE M * ENGLE |
| 分类号 |
B01J19/08;C23C16/50;C23C16/509;H01J37/32;H01L21/02;H01L21/205;(IPC1-7):C23C11/00 |
主分类号 |
B01J19/08 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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