| 发明名称 |
APPAREIL A PLASMA A RADIOFREQUENCE POUR DEPOSER DES COUCHES CONDUCTRICES |
| 摘要 |
<P>L'INVENTION CONCERNE UNE ENTRETOISE PERFECTIONNEE DESTINEE A SEPARER LES PLAQUES CONDUCTRICES D'UN REACTEUR A PLASMA A RADIOFREQUENCE ET A EMPECHER AINSI LA FORMATION DE COURTS-CIRCUITS ENTRE CES PLAQUES.</P><P>L'ENTRETOISE 1 COMPREND UN CORPS CYLINDRIQUE 4 EN MATIERE ISOLANTE POSITIONNE ENTRE DEUX PLAQUES CONDUCTRICES ADJACENTES 10 ET DONT LES EXTREMITES 8 FORMENT DES GORGES CIRCONFERENTIELLES 7 EMPECHANT LA FORMATION D'UN TRAJET ELECTRIQUE CONDUCTEUR DIRECT ENTRE LES PLAQUES 10.</P><P>DOMAINE D'APPLICATION: FORMATION DE COUCHES CONDUCTRICES SUR DES SUBSTRATS SEMI-CONDUCTEURS.</P>
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| 申请公布号 |
FR2516339(A1) |
申请公布日期 |
1983.05.13 |
| 申请号 |
FR19820014650 |
申请日期 |
1982.08.26 |
| 申请人 |
ADVANCED SEMICONDUCTOR MATERIALS |
发明人 |
RICHARD S. ROSLER ET GEORGE M. ENGLE;ENGLE GEORGE M |
| 分类号 |
B01J19/08;C23C16/50;C23C16/509;H01J37/32;H01L21/02;H01L21/205;(IPC1-7):H05H1/46;H01L21/20 |
主分类号 |
B01J19/08 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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