摘要 |
<p>PROCEDIMIENTO PARA LA ELECTRODEPOSICION DE COBRE A PARTIR DE BAÑOS GALVANOPLASTICOS DE COBRE ACIDOS ACUOSOS. SE APLICA UNA INTENSIDAD DE CORRIENTE DE 0,5 A 400 ASF A UN BAÑO DE ELECTRODEPOSICION DE COBRE QUE COMPRENDE UN BAÑO GALVANOPLASTICO DE COBRE ACUOSO QUE CONTIENE UNA CANTIDAD ABRILLANTADORA DE UN COMPUESTO DE FORMULA (I) DONDE FC ES UN RADICAL DE FTALOCIANINA, X ES <024>SO NR , <024>SO M O <024>CH SC(NR ) Y, R ES HIDROGENO, ALQUILO DE 1 A 6 ATOMOS DE CARBONO, ARILO DE 6 ATOMOS DE CARBONO, HETEROCICLILO DE 2 A 5 ATOMOS DE CARBONO Y SIMILARES, N ES DE 1 A 6, Y ES HALOGENO O SULFATO DE ALQUILO DE 1 A 4 ATOMOS DE CARBONO EN EL RESTO ALQUILO Y M ES HIDROGENO, LITIO, SODIO, POTASIO O MAGNESIO, PRODUCIENDOSE LA CORRESPONDIENTE REACCION DEL CU(II) A CU METALICO QUE SE DEPOSITA SOBRE EL SUSTRATO CORRESPONDIENTE, SIENDO LA TEMPERATURA A LA QUE SE PRODUCE LA ELECTRODEPOSICION DE 15 A 50<025>C.</p> |