发明名称 UN PROCEDIMIENTO PARA LA ELECTRODEPOSICION DE DEPOSITOS DE COBRE LISOS, BRILLANTES Y DUCTILES.
摘要 <p>PROCEDIMIENTO PARA LA ELECTRODEPOSICION DE COBRE A PARTIR DE BAÑOS GALVANOPLASTICOS DE COBRE ACIDOS ACUOSOS. SE APLICA UNA INTENSIDAD DE CORRIENTE DE 0,5 A 400 ASF A UN BAÑO DE ELECTRODEPOSICION DE COBRE QUE COMPRENDE UN BAÑO GALVANOPLASTICO DE COBRE ACUOSO QUE CONTIENE UNA CANTIDAD ABRILLANTADORA DE UN COMPUESTO DE FORMULA (I) DONDE FC ES UN RADICAL DE FTALOCIANINA, X ES <024>SO NR , <024>SO M O <024>CH SC(NR ) Y, R ES HIDROGENO, ALQUILO DE 1 A 6 ATOMOS DE CARBONO, ARILO DE 6 ATOMOS DE CARBONO, HETEROCICLILO DE 2 A 5 ATOMOS DE CARBONO Y SIMILARES, N ES DE 1 A 6, Y ES HALOGENO O SULFATO DE ALQUILO DE 1 A 4 ATOMOS DE CARBONO EN EL RESTO ALQUILO Y M ES HIDROGENO, LITIO, SODIO, POTASIO O MAGNESIO, PRODUCIENDOSE LA CORRESPONDIENTE REACCION DEL CU(II) A CU METALICO QUE SE DEPOSITA SOBRE EL SUSTRATO CORRESPONDIENTE, SIENDO LA TEMPERATURA A LA QUE SE PRODUCE LA ELECTRODEPOSICION DE 15 A 50<025>C.</p>
申请公布号 ES8302126(A1) 申请公布日期 1983.04.01
申请号 ES19710004995 申请日期 1981.02.18
申请人 OXY METAL INDUSTRIES CORPORATION 发明人
分类号 C25D3/38;(IPC1-7):25D3/38 主分类号 C25D3/38
代理机构 代理人
主权项
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