| 发明名称 |
Verfahren zum Erzeugen einer Photolackmaske an der Oberfläche eines scheibenförmigen Halbleiterkörpers |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AT303870(B) |
申请公布日期 |
1972.12.11 |
| 申请号 |
AT19680010441 |
申请日期 |
1968.10.25 |
| 申请人 |
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
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| 分类号 |
H05K3/00;(IPC1-7):H05K3/00 |
主分类号 |
H05K3/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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