| 主权项 |
1.供正片复制装置用之显像站,上述站包括了驱动拷贝之装置,此装置包括一圆筒可绕其轴旋转,一固定盖片张开于二扣接区之间并围绕上述圆筒表面之一部份,拷贝在圆筒与盖片之间通过,以及使拷贝上之潜像显影之装置,该装置包括至少一位于盖片区域表面上之通路,该盖片区域表面远离通过之拷贝及圆筒,通路经由伸延通过上述盖片之诸孔而与盖片接触拷贝之面相通,上述通路设有供上述药剂之入口及出口;上述伸延通过盖片之诸孔系聚合成至少一位于数个圆筒基体上之细长区域,该或每一区域系使其长度实际等于显像站之有效宽度,而该或诸等区域之宽度之和系在盖片包围圆筒之弧长的百分之一与二十之间。2.根据上述申请专利范围第]项之站,其中设有一通路。3.根据上述申请专利范围第2项之站,其中上述区域之宽度系在盖片包围圆筒之弧长的百分之二与十五之间。4.根据上述申请专利范围第l项之站,其中设有若干通路,并且伸延通过盖件之诸孔系聚合成数个细长区域,每一通路具有一细长区域。5.根据上述申请专利范围第4项之站,其中诸区域宽度之和系在盖片包围圆筒之弧长的百分之二与十五之间。6.根据上述申请专利范围第1至第5项中任何一项之站,其中通路系藉一带条构成,此带条扣接于盖片上设有孔之细长区域之周边上。7.根据上述申请专利范围第1至5项中任何一项之站,其中通路系由一区段构件构成,此构件有一敞开区段并系扣接于盖片上设有孔之区域之周边上,并且在其端部设有插塞。8.根据上述申请专利范围任何一项之站,其中供显影剂用之分配器系置于通路中。9.根据上述申请专利范围第8项之站,其中分配几全占有通路之所有内部,上述分配器为一中空圆筒之形式,设有至少一实际在一基体上之孔,并由构成通路之带条予以保持在定位,其方式系使孔位于尽可能靠近盖片之有孔区,上述分配器系在其端部直接连至潜像显影药剂之入口及出口管。10.根据上述申请专利范围第8项之站,其中分配器为一中空圆筒之形式,设有至少一实际位于一基体上之开口,上述分配器设有二翼片用以将其扣接于盖片,此二翼片系位于开口每边一片,其方式系使开口将位于尽可能靠近盖片之有孔区。11.根据上述申请专利范围任何一项之站,其中该通路有一区域构成一槽沟位于盖片上设有孔之区域下面。12.根据上述申请专利范围任何一项之站,其中也设有装置,此装置反应拷贝之通过,使药剂开始或终止进给至通路内。13.根据上述申请专利范围任何一项之站,其中在潜像显影装置参照拷贝移动方向之下流,另设有装置用以使拷贝脱气。14.根据上述申请专利范围第13项之站,其中脱气装置系由盖片上之有孔区以及位于靠近此有孔区并作用于盖片不接触拷贝之面之吸气装置构成。15.根据上述申请专利范围第14项之站,其中吸气装置由一管构成,此管至少在一端关闭,并设有一开口计画供在管内产生负压力,管壁设有至少一开口实际配置于管之基体上靠近盖片之有孔区。16.根据上述申请专利范围第14项之站,其中吸气装置系由一保持于负压力之容器构成,上述容器之开口系位于靠近盖片之有孔区,而容器包围此开口之诸壁在此区之每一边上伸延实际远至盖片不接触拷贝之面。17.根据上述申请专利范围任何一项之站,其中在使拷贝接触潜像显影剂之装置与脱气装置之间,此站设有回收未使用药剂之装置。18.根据上述申请专利范围第17项之站,其中上述装置系由盖片设有直通孔之一区域以及位于靠近上述区域之收集装置构成,上述装置系连至作用于盖片远离拷贝之面之吸气装置,上述吸气装置将药剂导往通路之入口。19.根据上述申请专利范围第]8项之站,其中收集装置系由一收集器构成,此收集器系由一中空圆筒构成,此圆至少在一端关闭,并设有一孔计画用以在圆筒内产生负压力,圆筒之壁设有至少一开口实际位于圆筒之基体上靠近盖片之有孔区。20.根据上述申请专利范围任何一项之站,此站另设有使药剂加热之装置。21.根据上述申请专利范围第20项之装置,其中药剂加热装置系由一配置于通路内之电阻器构成。22.根据上述申请专利范围任何一项之站,其中设有拷贝变湿装置位于通路之上流。23.根据上述申请专利范围第22项之站,其中拷贝变湿装置系由一通路构成,此通路位于盖片不接触拷贝之面,通路之内部空间系由经由通过盖片之开口与盖片接触拷贝之面相通,并且上述通路设有湿气体入口及出口装置。24.根据上述申请专利范围第22或23项之站,其中拷贝预热装置系由一配置于湿气循环通路中之电阻器构成。25.根据上述申请专利范围任何一项之站,其中盖片之扣接区为二个区段构件之形式,此二构件在盖片之每端设有扣接装置,并设有装置用以将区段构件固定于一设于显影站框架上之固定装置。26.根据上述申请专利范围任何一项之站,并包括用以自动调整盖片张力之装置。27.供原片之正片复制之装置,上述装置包括一根据前述请求专利部份任何一项之显影站。 |
