| 发明名称 |
PHOTORESIST APPLICATION METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DEVICE USING IT, AND PHOTORESIST APPLICATION DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH08330206(A) |
申请公布日期 |
1996.12.13 |
| 申请号 |
JP19950130412 |
申请日期 |
1995.05.29 |
| 申请人 |
HITACHI LTD;HITACHI TOKYO ELECTRON CO LTD |
发明人 |
YAMAGAMI TAKASHI;KANAI SHOJI;TAMIYA YOICHIRO;OKANE SHINYA;HARASHIMA MASASHIGE;ISHIUCHI MASAHIRO;KANEMATSU MASAYOSHI;KUROIWA KEIZO |
| 分类号 |
G03F7/16;B05C5/00;B05C11/08;B05D1/40;H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/16 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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