| 发明名称 |
APPARATUS AND METHOD FOR CONTROLLING THE SURFACE TEMPERATURE OF A SUBSTRATE IN A PROCESS CHAMBER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP2010694(A1) |
申请公布日期 |
2009.01.07 |
| 申请号 |
EP20070728207 |
申请日期 |
2007.04.17 |
| 申请人 |
AIXTRON AG |
发明人 |
KAEPPELER, JOHANNES;FRANKEN, WALTER |
| 分类号 |
C23C16/46;C23C16/458;C23C16/52 |
主分类号 |
C23C16/46 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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