| 摘要 |
本発明の課題は、ガスバリアー性及び耐久性（平面性及びダークスポット耐性）に優れた電子デバイスと、ガスバリアー性フィルムの製造方法を提供することである。本発明の電子デバイスは、樹脂基材上、炭素原子、ケイ素原子及び酸素原子を有し、層厚方向に組成が連続的に変化し、炭素分布曲線が極値を有し、炭素原子比率の極大値と極小値の差が５ａｔ％以上で、全層厚の９０％以上の領域での平均原子比率が、（炭素原子比率）＜（ケイ素原子比率）＜（酸素原子比率）、又は（酸素原子比率）＜（ケイ素原子比率）＜（炭素原子比率）であり、かつガスバリアー層上に、ポリシラザン含有液を塗布、乾燥した後、形成した塗膜に収縮処理を施して形成され、収縮処理前後における層厚方向の膜収縮率が１０〜３０％である無機ポリマー層を有するガスバリアー性フィルムを具備することを特徴とする。 |
