| 主权项 |
1.一种熔接带条于薄膜之装置包括:用以连续进给薄膜之装赀;一与由薄膜进给装置予以进给之薄膜之一边相对配置之带在给滚子及该滚子则包括一设有吸入方式支承带之装置之周边;用以进给带至该带进给滚子之外周边之装置;一与带进给滚子相对配置之熔接滚子且将蒲模支承于其间及该熔接滚子包括在其周边用以熔接带条于薄膜之装置;及一同步转动带进给滚子及熔接滚子之动力传动机构。2.根据上述申请专利范围第1.项之装置,再包括一变速傅动机构,在其中带进给滚子之角速度系予以改变以便带进滚子及熔接滚子之角加速度灭至大致上为零俾常出带进滚子所支承之带条予以熔接于薄膜时该两滚子之角速度系与薄膜之进速度一致。3.根据上述申请专利范围第2.项之装置,在其中变速传动机构包括一由马达之动力所转动之输入臂及一用以将动力传输至带进给滚子及熔接滚子之输出臂,两臂系经山与转动中心分离之联结装演予以联结,及传动机构包括用以改变输出臂之转动中心及输入臂之转动中心间之偏差之调整装置。4.根据上述申请专利范圈第1.项之装置,在其中切割装置包括一与带进给滚子同步转动之切割器及该切割器包括一在转动过程中紧靠带进滚子之周边之一刃口。5.根据上述申请专利范圈第1.项之装置,在其中用以支承带之装置包括以间隔方式在带进给滚子之外周边中所形成之连通孔及一与带进给滚子之平面侧相接触之压力块及该块包括一与孔相连通之吸取槽,因而带条系由吸取槽之吸力所支承直至带条予以熔接于薄膜为止。6.根据上述申请专利范围第1.项之装置,在其中熔接装置包括高频熔接电极及该带进给滚子则对高频熔接电极形成一匹配电极。7.根据上述申请专利范围第6.项之装置,在其中该熔接装置系经由弹性材料予以按装于外周边。8.根据上述申请专利范围第1.项之装置,再包括一对用以进给带至带进给滚子,及配置在上游进给滚子之一之转速系大于配管在下游之进给滚子之另一个之转速俾带之摺痕系藉该两滚子间之速差予以消除。 |
