Process for the stress-free development of irradiated polymethylmethacrylate layers.

摘要

Verfahren für die spannungsfreie Entwicklung von Lackschichten oder -folien, z.B. PMMA, für die Herstellung von galvanoplastisch erzeugten Präzisionsflachteilen. Bei der Entwicklung mit bekannten Entwicklern treten ab einer PMMA-Schichtdicke von ca. 3 µm Spannungsrisse in der Schicht auf. Nach der Erfindung findet ein Entwickler Anwendung, der aus einem Stoff der Glykoläther-Gruppe, einem Stoff der Primär-Amine, ferner aus Wasser und aus einem Stoff der Azin-Gruppe besteht. Mit derartig zusammengesetzten Entwicklern wurden bei der Herstellung von Matrizen für galvanoplastische Teile in 100 µm dicken PMMA-Schichten Aspektverhältnisse von 30:1 erreicht, ohne daß Dunkelabtrag beobachtet werden konnte und Spannungsrisse auftraten. Die bei der Entwicklung gelösten PMMA-Anteile sowie der Entwickler selbst lassen sich bei der abschließenden Spülung mit Wasser restlos entfernen, so daß keine störenden Schichtreste auf den freientwickelten Flächen verbleiben.