| 摘要 |
Bei derartigen filigranen Gittern (10) für die Erforschung von extraterristischen Strahlungsquellen (XUV- und Röntgenquellen) treten bei ihrem Transport in orbitale Umlaufbahnen starke mechanische Belastungen auf, die eine Dauerbiegebeanspruchung an dem Bereich des unsteten Überganges von den Gitterlamellen (11) zum starren umlaufenden Rahmen (15) verursachen. Um diese Übergangsstelle (Pfeil) mechanisch stabiler zu machen, wird der Übergangsbereich (Pfeil) in bestimmter Weise strukturiert, und so die Bruchgefahr herabgesetzt, ohne daß die physikalischen Eigenschaften des Gitters (10) wesentlich beeinträchtigt werden. Die Struktur kann unregelmäßig oder regelmäßig sein und wird in einfacher Weise bei der photolithografischen Herstellung des Gitters (10) durch die Belichtungsmaske erzeugt.
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