Method for the testing of optical systems using moiré fringes.

摘要

Zur Prüfung der Verzeichnung eines optischen Abbildungssystems (5), z. B. einer photolithographischen Kopiermaschine, wird in einem ersten Schritt durch Kontaktbelichtung eine erste Kopie einer linearen optischen Gitterstruktur (1) auf einem Substrat (2) erzeugt, und in einem zweiten Schritt auf demselben Substrat eine zweite Kopie durch das prüfende Abbildungssystem (5). Die zweite Kopie ist gegenüber der ersten um einen kleinen Winkel gedreht, so daß sich Moiré-Muster ergeben. Die Abweichung dieser Moiré-Muster gegenüber Mustern zweier idealer Gitter gibt ein Maß für die Verzeichnung des Abbildungssystems. Zur Erhöhung der Empfindlichkeit werden die Moiré-Muster in einer hohen Beugungsordnung beobachtet. Anstelle eines linearen Gitters können auch Gitterfelder treten, die aus mehreren orthogonal zueinander orientierten linearen Gittern bestehen.