发明名称 一种直立大量同步管内沈积的光纤预型体制造方法
摘要 本发明为大量制造光纤预型体的管内沈积方法IVPO Inside Vapor-Phase Oxidation,此为一种通信用充纤在抽丝前之预形体(preform)量产的方法。特别是在同一台设备上以直立式大量石英管同步沈积制造多支光纤预形体,取代传统在一部玻璃车床上只能以一支石英管水平方向沈积制造一支光纤预形体的方法。本发明之主要目的在于提供一种用最简单设备来制造高倍数沈积速率、高沈积均匀度、高气密度、高折射率分布精确度、高操作灵活度及低设备复杂度、低成本投入的方法。依此方法得以制造出高品质和低成本的光纤。为达到上述目的,本发明使用多管直立式并列架设、石英管直立固定永不转动方式、各沈积热源装置同步共用驱动器做垂直上下移动沈积的方式及集用相同装置方式来实现高产量预型体制造的方法,以早日完成宽频光纤到家的理想。
申请公布号 TWI261073 申请公布日期 2006.09.01
申请号 TW093107680 申请日期 2004.03.22
申请人 杨春足 发明人 杨春足
分类号 C23C16/00(07) 主分类号 C23C16/00(07)
代理机构 代理人
主权项 1.一种直立大量同步管内沈积的光纤预型体制造方法,系于一台预型体制程沈积设备上,直立并列架设大数量的石英管及所有石英管始终固定不转动,并以各石英管外的加热装置依垂直方向沿石英管同步上下移动对其内通过的化学气相物作用,在管内各自沈积纯矽或掺杂氧化矽层,以同时获得大数量的光纤预型管;依序完成沈积纤壳层及核心层后,在熔缩设备上熔缩成实心预型体的方法。2.按权利要求1所述的直立大量同步管内沈积的光纤预型体制造方法,其特征在于石英管系以直立架设且始终固定不转动的方式进行管内沈积的方法。3.按权利要求1或2所述的直立大量同步管内沈积的光纤预型体制造方法,其特征在于以始终固定不转动的方式进行管内沈积的石英管两端,使用固定接头连接进气及排气之方法4.按权利要求1或2所述的直立大量同步管内沈积的光纤预型体制造方法,其特征在于对始终固定不转动石英管的加热装置,采用圆对称均匀提供化学反应能量给管内化学气相反应物质以进行管内沈积的方法。5.按权利要求1或2所述的直立大量同步管内沈积的光纤预型体制造方法,其特征系在同一台设备上以大数量石英管直立并列,其各加热装置集中共同装设于同一驱动设备上,而各加热装置对各自石英管施以沈积用能量,并以沿各石英管上下垂直移动的同步驱动方式做倍数沈积制造光纤预型体之方法。图式简单说明:图一、MCVD(Modified Chemical Vapor Deposition)改良式化学气相沈积法图二、PCVD(Plasma-activated Chemical Vapor Deposition)电浆激励化学气相沈积法图三、OVD(Outside Vapor Deposition)外化学气相沈积法图四、VAD(Vapor-phased Axial Deposition)轴向化学气相沈积法图五、光纤结构图六、PCVD法石英管水平沈积传统玻璃车床多台机器架设方式图七、PCVD法直立十管同步沈积制造光纤预型管实例
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