主权项 |
1.一种直立大量同步管内沈积的光纤预型体制造方法,系于一台预型体制程沈积设备上,直立并列架设大数量的石英管及所有石英管始终固定不转动,并以各石英管外的加热装置依垂直方向沿石英管同步上下移动对其内通过的化学气相物作用,在管内各自沈积纯矽或掺杂氧化矽层,以同时获得大数量的光纤预型管;依序完成沈积纤壳层及核心层后,在熔缩设备上熔缩成实心预型体的方法。2.按权利要求1所述的直立大量同步管内沈积的光纤预型体制造方法,其特征在于石英管系以直立架设且始终固定不转动的方式进行管内沈积的方法。3.按权利要求1或2所述的直立大量同步管内沈积的光纤预型体制造方法,其特征在于以始终固定不转动的方式进行管内沈积的石英管两端,使用固定接头连接进气及排气之方法4.按权利要求1或2所述的直立大量同步管内沈积的光纤预型体制造方法,其特征在于对始终固定不转动石英管的加热装置,采用圆对称均匀提供化学反应能量给管内化学气相反应物质以进行管内沈积的方法。5.按权利要求1或2所述的直立大量同步管内沈积的光纤预型体制造方法,其特征系在同一台设备上以大数量石英管直立并列,其各加热装置集中共同装设于同一驱动设备上,而各加热装置对各自石英管施以沈积用能量,并以沿各石英管上下垂直移动的同步驱动方式做倍数沈积制造光纤预型体之方法。图式简单说明:图一、MCVD(Modified Chemical Vapor Deposition)改良式化学气相沈积法图二、PCVD(Plasma-activated Chemical Vapor Deposition)电浆激励化学气相沈积法图三、OVD(Outside Vapor Deposition)外化学气相沈积法图四、VAD(Vapor-phased Axial Deposition)轴向化学气相沈积法图五、光纤结构图六、PCVD法石英管水平沈积传统玻璃车床多台机器架设方式图七、PCVD法直立十管同步沈积制造光纤预型管实例 |