形成光阻图案的方法以及光罩的制作方法

摘要

一种形成光阻图案的方法，此方法是先提供一基底。然后，于基底上形成第一光阻层，此第一光阻层需藉由第一曝开能量而曝开。接着，于第一光阻层上形成第二光阻层，此第二光阻层需藉由第二曝开能量而曝开，其中第二曝开能量小于第一曝开能量。继之，对基底的第一区域进行第一写入步骤，此第一写入步骤的写入能量介于第一曝开能量与第二曝开能量之间。而后，对基底的第二区域进行第二写入步骤，此第二写入步骤的写入能量大于或等于第一曝开能量。之后，进行显影步骤，以形成光阻图案。