双面局部图案导电性薄膜结构与制程方法

摘要

一种透明或半透明非导体薄膜基材表面，具备双面导电性材料镀膜局部图案之结构，其主要透过以同时进行双面非化学蚀刻方式而产生镀膜局部图案，系以有机或无机之非导体薄膜基材作为镀膜之支撑载体，并利用印刷涂布方式产生对薄膜两侧局部图案之图形遮蔽，再以真空镀膜方式沈积导电性材料粒子形成连续之具导电性之薄层镀膜；其后，并藉由水溶液之选择性溶解剥离，免除化学药剂之酸硷蚀刻制程，进而显影且呈现出双面局部镀膜图案，以利后续作为导电或光学功能之应用。