摘要 |
<P>L'INVENTION CONCERNE UN PROCEDE ET UN DISPOSITIF DE CHAUFFAGE PAR UN FAISCEAU D'ELECTRONS RELATIVISTES D'UN PLASMA DE HAUTE DENSITE POUR ATTAQUER DES ENVELOPPES RAPIDES.</P><P>UN FAISCEAU ANNULAIRE D'ELECTRONS RELATIVISTES 34 CHAUFFE UN PLASMA ANNULAIRE A DES TEMPERATURES EXPRIMEES EN KILOVOLTS, PAR DES INSTABILITES D'ECOULEMENT DANS LE PLASMA 68. L'ENERGIE DEPOSEE DANS LE PLASMA ANNULAIRE CONVERGE ENSUITE SUR UNE ENVELOPPE RAPIDE POUR LA FAIRE IMPLOSER, PAR ATTAQUE EXPLOSIVE OU ABLATIVE.</P><P>L'INVENTION S'APPLIQUE A LA PRODUCTION DE RAYONNEMENT DE NEUTRONS ETOU DE PARTICULES ALPHA.</P>
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