| 主权项 |
1﹒一种非均匀反射式绕射藉合雷射阵列系在雷射阵列之尾端接近反射镜面处加一非均匀反射之藕合器,以导致较为稳定之基模,雷射阵列中之每一根雷封在接近镜面时长度均不同,中间的一根长度最长,较接近镜面,故其波导末端发射雷射场输出之反射较强,损失较少,较容易起振,而基模在此雷射阵列中之中央处有最大之振幅,故增益波形轮廓之分布与基模电场波形轮廓非常匹配,而造成一稳定之基模。2﹒依据申请专利范围第一项所述之非均匀反射式绕射藕合雷射阵列,包括两个反射藕合器和一个中间藕合器,雷射阵列中,每一根雷射之波导导向末端接近镜面处长度均不同,而呈Y形之阵列,其中中间的一根长度最长最接近镜面,对相同的非导向段之差异距离1﹒存在一个最大之共同非导向段距离1,使得基模稳定性参数P为最高,而P値系最大与第二大埃根値(eigenvalue)之比例,P値越大则基模越稳定,且共同非导向段距离1愈大,波导宽度越宽时,则需更大之非导向段之差异距离1﹒以达到相同稳定性者。 |
