摘要 |
<p>COMPOSICION DEL REVESTIMIENTO DE PLACAS DE IMPRESION, Y PLACAS DE IMPRESION QUE SON REVELABLES CON DISOLVENTES O CON AGUA. LA COMPOSICION ESTA FORMADA POR UNA MEZLCA HOMOGENEA DE RESINA OLIGOMERA FOTORREACTIVA EN UN 1-75 POR 100 EN PESO, SOLUBLE EN DISOLVENTES INORGANICOS; UNA DIAZORRESINA OLEOFILA AGLUTINANTE EN UN 17-20 POR 100 EN PESO SOLUBLE EN DISOLVENTES ORGANICO; UN SISTEMA FOTOINICIADOR DE RADICALES LIBRES EN UN 0,5-15 POR 100 EN PESO; UN 10-65 POR 100 EN PESO DE COMPUESTOS INSATURADOS POLIETILENICAMENTE, POLIMERIZABLES POR RADICALES LIBRES, Y CON DOS GRUPOS ETILENICAMENTE INSATURADOS AL MENOS, Y UN 5-40 POR 100 EN PESO DE UN POLIMERO SOLUBLE EN DISOLVENTES ORGANICOS Y ABLANDABLE CON AGUA. LA PLACA DE IMPRESION ES DE UN SUSTRATO OLEOFOBO DE ALUMINIO SOBRE EL QUE SE APLICA EL REVESTIMIENTO. DE APLICACION EN PLACAS SENSIBLES A LA LUZ PARA SISTEMAS DE IMPRESION.</p> |