| 摘要 |
<P>L'INVENTION CONCERNE UN APPAREIL ET UN PROCEDE DE FOCALISATION POUR LE BALAYAGE A DOUBLE DEVIATION D'UN FAISCEAU DE PARTICULES.</P><P>UN PREMIER ELECTRO-AIMANT32 DEVIE UN FAISCEAU COLLIMATE20 D'UN ANGLE VARIABLE POUR PRODUIRE UN FAISCEAU EN EVENTAIL 21, 22 QUI PASSE ENSUITE DANS L'ENTREFER D'AIMANTS EN SECTEUR 23, 24. CES DERNIERS DEVIENT A NOUVEAU LE FAISCEAU EN EVENTAIL POUR PRODUIRE UN FAISCEAU PARALLELE 33, 34.</P><P>L'INVENTION S'APPLIQUE NOTAMMENT A UN EQUIPEMENT D'IMPLANTATION IONIQUE DE PLAQUETTES SEMI-CONDUCTRICES.</P>
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