| 发明名称 |
METHOD OF MAKING THICK FILM FINE PATTERNS. |
| 摘要 |
<p>Une methode de fabrication de motifs fins sur une pellicule epaisse comprend les etapes suivantes: application d'une pate pour former des circuits sur un substrat isole (1), sechage de la pate, de d'un mate photo-reserve (3) sur la surface de la pellicule de pate (2), la pate etant huileuse tandis que la photoreserve est aqueuse ou vice-versa, permettant ainsi la formation de motifs de circuits par la technique d'attaque photo-chimique.</p> |
| 申请公布号 |
EP0016231(A1) |
申请公布日期 |
1980.10.01 |
| 申请号 |
EP19790901043 |
申请日期 |
1980.03.25 |
| 申请人 |
FUJITSU LIMITED |
发明人 |
WATANABE, YUTAKA;MATSUO, HISAYASU |
| 分类号 |
H05K3/02;H01L21/70;H05K1/09;H05K3/06;(IPC1-7):05K3/00;05K3/10;05K3/12;01L49/02 |
主分类号 |
H05K3/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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