| 发明名称 |
DISPOSITIF POUR PRODUIRE PAR PROJECTION DES MASQUES SUR UNE PIECE |
| 摘要 |
<P>Dispositif pour produire par projection des masques sur un substrat semi-conducteur. </P><P>L'image des marques de repérage 6 dans le plan du motif ou des marques d'alignement 5 ou bien celle du motif d'alignement 5 dans le plan des marques de repérage 6 s'effectue au moyen de l'objectif de projection 4 et les marques de repérage 6 et le motif ou les marques d'alignement 5 comprennent, de manière correspondante, des traits ayant une orientation sagittale ou méridionale par rapport à l'axe optique </P><P>Application à la fabrication de circuits intégrés.</P>
|
| 申请公布号 |
FR2446507(A1) |
申请公布日期 |
1980.08.08 |
| 申请号 |
FR19800000480 |
申请日期 |
1980.01.10 |
| 申请人 |
CENSOR PATENT VERSUCHS ANSTALT |
发明人 |
|
| 分类号 |
G03B27/32;G03F9/00;H01L21/027;H01L21/30;(IPC1-7):G03F9/00;G03B27/42;H01L21/70 |
主分类号 |
G03B27/32 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
