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发明名称
PROCESSO PARA A DEPOSICAO DE RESIDUOS LIQUIDOS RADIOATIVOS
摘要
申请公布号
BR7906548(A)
申请公布日期
1980.06.24
申请号
BR19790006548
申请日期
1979.10.12
申请人
HOECHST AG
发明人
HESKY H;WUNDERER A
分类号
G21F9/02;G21F9/22;(IPC1-7):C01B5/00
主分类号
G21F9/02
代理机构
代理人
主权项
地址
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