发明名称 PROCESSO PARA A DEPOSICAO DE RESIDUOS LIQUIDOS RADIOATIVOS
摘要
申请公布号 BR7906548(A) 申请公布日期 1980.06.24
申请号 BR19790006548 申请日期 1979.10.12
申请人 HOECHST AG 发明人 HESKY H;WUNDERER A
分类号 G21F9/02;G21F9/22;(IPC1-7):C01B5/00 主分类号 G21F9/02
代理机构 代理人
主权项
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