发明名称 METHOD OF PREPARATION OF PURE AND DOPED LAYERS OF THE SILICON DIOXIDE
摘要
申请公布号 CS196953(B1) 申请公布日期 1980.04.30
申请号 CS19780000123 申请日期 1978.01.05
申请人 GUROVIC,JAN,CS;VALICEK,JAROMIR,CS;TESARIK,PAVEL,CS 发明人 GUROVIC,JAN,CS;VALICEK,JAROMIR,CS;TESARIK,PAVEL,CS
分类号 (IPC1-7):B01J17/28 主分类号 (IPC1-7):B01J17/28
代理机构 代理人
主权项
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