首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 FORMATION FOR BURIED LAYER OF SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 JPS5538082(A) 申请公布日期 1980.03.17
申请号 JP19780112065 申请日期 1978.09.11
申请人 MITSUBISHI ELECTRIC CORP 发明人 HASHIZUME TSUNEO
分类号 H01L21/74;H01L21/225;H01L21/331;H01L29/72;H01L29/73 主分类号 H01L21/74
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com