Radiation-sensitive mixture and process for producing relief images.

摘要

Es wird ein strahlungsempfindliches Gemisch beschrieben, das (a) eine unter Einwirkung von aktinischer Strahlung, insbesondere UV-Licht, Säure bildende Verbindung und (b) eine Verbindung enthält, die mindestens eine Enoläthergruppe enthält, und deren Löslichkeit in einem flüßigen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird. Der Enoläther ist bevorzugt eine Verbindung der allgemeinen Formel I <IMAGE> in der R1 einen n-wertigen alphatischen Rest mit wenigstens 2 Kohlenstoffatomen bedeutet, R2,R3 und R4 gleich oder verschieden sind und Wasserstoffatome, Alkyl- oder Arylreste bedeuten oder jeweils zu zweit zu einem gesättigten oder olefinisch ungesättigten Ring verbunden sind, und n eine ganze Zahl von 1 bis 4 ist. Das Gemisch wird in Form einer strahlungsempfindlichen Schicht bildmäßig bestrahlt und an den bestrahlten Stellen mit einem Entwickler ausgewaschen, so daß ein positives Reliefbild entsteht.