| 摘要 |
프로세스 챔버와 함께 이용하기 위한 가스 분산 장치는: 최상부, 최상부의 바닥 표면에 연결된 링, 및 최상부 맞은편에 링에 연결된 분산 홀들을 갖는 바닥 플레이트를 갖는 석영 바디; 최상부와 바닥 플레이트 사이에 배치된 복수의 석영 플레이트 - 복수의 플레이트는 하나가 다른 것의 위에 위치되고 이격되어, 바닥 플레이트와 복수의 플레이트 각각의 위에 플레넘을 형성함 - ; 플레넘들을 복수의 분산 홀에 연결하는 복수의 석영 튜브 - 복수의 석영 튜브 각각은 플레넘들 중 하나 내에 배치된 제1 단을 갖고 분산 홀들 중 하나에 연결된 제2 단을 가짐 - ; 및 최상부를 관통하여 배치된 복수의 도관 - 복수의 도관 각각은 플레넘들 중 하나에 연결됨 - 을 포함한다. |
