| 发明名称 |
EXHASUT SYSTEM OF PARTICLEEBEAM EQUIPMENT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS54124966(A) |
申请公布日期 |
1979.09.28 |
| 申请号 |
JP19780033525 |
申请日期 |
1978.03.23 |
| 申请人 |
NIPPON ELECTRON OPTICS LAB |
发明人 |
NAKAGAWA SEIICHI;NAKANISHI MASANORI |
| 分类号 |
H01J9/38;H01J7/14;H01J37/18 |
主分类号 |
H01J9/38 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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