| 摘要 |
<p>Perfeccionamientos en dispositivos de lavado y devesiculado de mezclas gaseosas, del tipo columna de lavado por pulverización de una corriente gaseosa ciclónica, en el que se realiza, en una primera zona o zona de lavado, la combinación de una corriente gaseosa ciclónica y de una pulverización vertical de líquido de arriba hacia abajo, en una segunda zona de la columna o zona de devesiculado la combinación de la corriente gaseosa ciclónica y de las paredes de la columna de modo que se detengan las vesículas en forma de película líquida, y se complementa a la segunda zona de la columna o zona de devesiculado por una corona colocada de modo que se detenga la película líquida caracterizado porque comprende, antes de la zona de lavado de la columna ciclónica, una zona de lavado preliminar en la que el gas a tratar sufre una aceleración y una turbulencia tales que se carga de finas gotitas antes de su introducción en la columna ciclónica.</p> |
