发明名称 |
Verfahren zum Herstellung einer Schutzschicht an der Oberfläche eines Halbleiterkristalls |
摘要 |
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申请公布号 |
AT269947(B) |
申请公布日期 |
1969.04.10 |
申请号 |
AT19670003976 |
申请日期 |
1967.04.27 |
申请人 |
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
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分类号 |
C23C16/34;C30B15/20;H01L21/318;H01L23/29 |
主分类号 |
C23C16/34 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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