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发明名称 PHOTOMASK SUBSTRATE
摘要
申请公布号 JPS5452472(A) 申请公布日期 1979.04.25
申请号 JP19770118893 申请日期 1977.10.03
申请人 TOSHIBA CERAMICS CO 发明人 KAGAMI TOSHIROU;TAKAHASHI SHIYOUICHI
分类号 C03C3/12;G03C1/00;G03F1/00;G03F1/54;G03F1/60;G03F7/004;G03F9/00;H01L21/027;H01L21/302 主分类号 C03C3/12
代理机构 代理人
主权项
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