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发明名称 MASKS FOR X-RAY LITHOGRAPHY
摘要
申请公布号 GB1544787(A) 申请公布日期 1979.04.25
申请号 GB19770018363 申请日期 1977.05.02
申请人 SIEMENS AG 发明人
分类号 H01L21/027;G03F1/22;(IPC1-7):21K1/10;03C5/16 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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