首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
摘要 <p>A photosensitive composition is prepared from a mixture of a cinnamic acid type photosensitive resin and a sensitizer of a halogen-substituted benzanthrone.</p>
申请公布号 CA1052164(A) 申请公布日期 1979.04.10
申请号 CA19740201325 申请日期 1974.05.31
申请人 MITSUBISHI CHEMICAL INDUSTRIES LTD. 发明人 FUKUTANI, HIDEO;MIURA, KONOE;EGUCHI, CHIHIRO;TAKAHASHI, YOSHIHIRO;TORIGE, KAZUO
分类号 G03C1/00;C07C45/00;C07C49/697;C07C67/00;C08F290/00;C08F299/00;G03F7/004;G03F7/031;G03F7/038;H01L21/027;(IPC1-7):03C1/71 主分类号 G03C1/00
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com