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<P>Ensemble cathodique comportant une cible plate pour équipements de pulvérisation de couches diélectriques ou amagnétiques sur des substrats et un générateur de champ magnétique, isolé de la cible et dispose en aval de cette dernière par rapport aux substrats. </P><P>Le générateur de champ magnétique est une bobine plate 13, parallele à la cible 19 et présentant une surface sensiblement egale à celle de la cible. La bobine plate est munie d'un dispositif de refroidissement 19b, 19c.</P>
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