摘要 |
<p>Un aparato para aplicar un líquido a un substrato, que comprende: un primer cilindro rotativo; un segundo cilindro rotativo situado debajo del primer cilindro para formar una distancia de agarre entre el primer cilindro y el segundo cilindro; medios para hacer avanzar el substrato hasta la distancia de agarre; medios para aplicar una cantidad del líquido sobre dicho cilindro inferior, incluyendo dicha cantidad una parte en exceso; una espátula de hilo tensado que coopera con el segundo cilindro y para retirar dicha parte en exceso desde dicho segundo cilindro; y medios para retirar dicho substrato de dicha distancia de agarre.</p> |