| 发明名称 |
IMPROVING METHOD FOR ADHESION RESISTANCE OF PHOTOGRAPHIC MATERIAL |
| 摘要 |
PURPOSE:To improve adhesion resistance of a photographic material, by adding a specified colloidal silica aqueous solution to a protective or backing layer.
|
| 申请公布号 |
JPS53123916(A) |
申请公布日期 |
1978.10.28 |
| 申请号 |
JP19770039134 |
申请日期 |
1977.04.05 |
| 申请人 |
FUJI PHOTO FILM CO LTD |
发明人 |
NAOI TAKASHI;HORIE SEITAROU |
| 分类号 |
G03C1/76;G03C1/95 |
主分类号 |
G03C1/76 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
