| 发明名称 |
DEVELOPING LIQUID FOR USE IN RADIANT RAY POSITIVE TYPE RESIST |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS53123929(A) |
申请公布日期 |
1978.10.28 |
| 申请号 |
JP19770038677 |
申请日期 |
1977.04.05 |
| 申请人 |
TOKYO OUKA KOUGIYOU KK;NIPPON DENSHI KOGYO SHINKO |
发明人 |
NAKAYAMA TOSHIMASA;YOKOTA AKIRA;NAKANE HISASHI;ICHIKAWA SUSUMU;KOTAKE KOUICHI;ANDOU EIJI |
| 分类号 |
G03F7/32;G03F7/039;G03F7/30;G03G9/00;H01L21/027;H01L21/30;H01L21/302;H05K3/06 |
主分类号 |
G03F7/32 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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