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发明名称
ETCHING METHOD FOR METAL OR MERAL OXIDE THIN FILM
摘要
PURPOSE:To clearly etch the margin of a chromium or chromium oxide single layer or chromium and chromium oxide two-layer thin film formed on a substrate, by etching the thin film with a mixed soln. of an acetate and ammonium cerium (IV) nitrate.
申请公布号
JPS53112237(A)
申请公布日期
1978.09.30
申请号
JP19760160287
申请日期
1976.12.29
申请人
FUJITSU LTD
发明人
NAKAGAWA KENJI
分类号
H05K3/00;C23F1/26;H05K3/06
主分类号
H05K3/00
代理机构
代理人
主权项
地址
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