| 发明名称 |
FORMING METHOD OF PATTERNS |
| 摘要 |
PURPOSE:To form patterns of high accuracy by forming a sensitive film of two layer structure of an iso-substance thin-film and a syndio-substance thin-film on a substrate. |
| 申请公布号 |
JPS5387668(A) |
申请公布日期 |
1978.08.02 |
| 申请号 |
JP19770002586 |
申请日期 |
1977.01.13 |
| 申请人 |
TOKYO SHIBAURA ELECTRIC CO |
发明人 |
YOSHIDA HIROMI;MIYAMURA MASATAKA |
| 分类号 |
G03F7/26;G03F7/039;G03F7/20;H01L21/027;H01L21/302 |
主分类号 |
G03F7/26 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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