| 摘要 |
<P>Solutions d'enlèvement de substances photorésistantes. </P><P>Ces solutions d'enlèvement comprennent 30-80 % en poids d'un ou de plusieurs acides arylsulfoniques non substitués ou à substitution alkylique, mélangés avec des composés aryliques chlorés, des composés alkylaryliques ayant 1-14 atomes de carbone dans le groupe alkyle, un hydrocarbure isoparaffinique, ou des mélanges de tous ces produits. </P><P>La présente invention est particulièrement utile pour fournir des solutions exemptes de composés phénoliques, pour retirer des substances polymères organiques à partir de substrats minéraux.</P>
|
