| 发明名称 |
ELECTRON BEAM EXPOSURE APPARATUS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS5358771(A) |
申请公布日期 |
1978.05.26 |
| 申请号 |
JP19760133899 |
申请日期 |
1976.11.08 |
| 申请人 |
NIPPON ELECTRON OPTICS LAB |
发明人 |
MIYAUCHI SAKAE;TANAKA KAZUMITSU;GOTOU NOBUO |
| 分类号 |
H05K3/00;G03F7/20;H01J37/30;H01J37/305;H01L21/027;H01L21/312;H05K3/06 |
主分类号 |
H05K3/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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