| 发明名称 |
VERFAHREN ZUR JUSTIERUNG EINES SCHEIBENFOERMIGEN SUBSTRATES RELATIV ZU EINER FOTOMASKE IN EINEM ROENTGENSTRAHLBELICHTUNGSGERAET |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE2635275(A1) |
申请公布日期 |
1978.02.09 |
| 申请号 |
DE19762635275 |
申请日期 |
1976.08.05 |
| 申请人 |
SIEMENS AG |
发明人 |
FRIEDRICH,HANS,DIPL.-PHYS. |
| 分类号 |
H05K3/00;G03F9/00;H01L21/027;(IPC1-7):G03F1/02 |
主分类号 |
H05K3/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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