| 摘要 |
본 고안은 반도체 제조 공정의에서 노광이 완료된 웨이퍼에 현상액을 뿌려 패턴(pattern)을 형성시키는 포토 현상 공정에서 사용되는 포토 현상 장치에 관한 것으로 특히, ∨형태의 원형판의 형상을 갖는 하부원판과, 상기 하부원판과 소정의 간격을 유지하며 그 중심부에 상기 현상액 공급 수단으로부터 현상액을 공급받을 수 있도록 연결통로를 갖고 ∨형태의 형상을 갖고 있는 상부면, 및 상기 하부원판과 상부면을 고정 지지하며 상기 하부원판과 상부면이 유지하고 있는 간격을 통해 유출되는 현상액이 상기 하부원판 아래에 위치하는 웨이퍼에 분사시키기 위한 환형 커버로 구성되는 것을 특징으로 하는 분수 사출 방식의 현상액 노즐을 제공하면, 현상공정에서 발생할 수 있는 미세 패턴의 가공 크기에 대한 균일도를 극대화 할 수 있으며 포토 공정에서 감광액으로 형성하는 패턴의 균일도를 최대한 안정하게 유지할 수 있다는 효과가 있다. |
