| 摘要 |
<P>L'invention concerne un système d'exposition à un faisceau d'électrons comprenant un moyen générateur d'un faisceau d'électrons un système optique électronique pour converger et projeter le faisceau sur une pièce, un moyen d'entraînement pour décaler continuellement pièce dans une certaine direction Y et un moyen déflecteur pour dévier le faisceau d'électrons dans une étendue de bande étroite sur la pièce plus ou moins perpendiculairement à la direction Y. </P><P>Selon l'invention un moyen forme le faisceau d'électrons 3 à section transversale à plusieurs côtés produit par le moyen générateur 2 et il comporte deux plaques à ouvertures 7 et 8 ayant des ouvertures a plusieurs côtes respectivement et un moyen déflecteur 9 entre les deux plaques. </P><P>L'invention permet notamment de reproduire divers motifs sur des pièces.</P>
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