| 发明名称 |
PHOTO MASK |
| 摘要 |
PURPOSE:To prevent the crazing of pellet at the time of cracking wafers by providing a baked pattern for scribing also between the target unit regions exclusive for alignment. |
| 申请公布号 |
JPS52156568(A) |
申请公布日期 |
1977.12.27 |
| 申请号 |
JP19760073194 |
申请日期 |
1976.06.23 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
TAKAYANAGI TOSHIHIKO;TAZAWA MASAMITSU |
| 分类号 |
G03F1/00;G03F1/38;G03F9/00;H01L21/027;H01L21/302 |
主分类号 |
G03F1/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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