| 发明名称 |
SEMICONDUCTOR WAFER TREATMENT APPARATUS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS52150974(A) |
申请公布日期 |
1977.12.15 |
| 申请号 |
JP19760067671 |
申请日期 |
1976.06.11 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
NONAKA TOSHIO;HASHIMOTO TOSHIO;MURAMATSU KIMIO |
| 分类号 |
H01L21/306;H01L21/302;H01L21/48 |
主分类号 |
H01L21/306 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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